Informace o projektu
Plazmochemické procesy a jejich technologické aplikace
- Kód projektu
- GD104/09/H080
- Období řešení
- 1/2009 - 12/2012
- Investor / Programový rámec / typ projektu
-
Grantová agentura ČR
- Doktorské granty
- Fakulta / Pracoviště MU
-
Přírodovědecká fakulta
- prof. RNDr. David Trunec, CSc.
- doc. RNDr. Antonín Brablec, CSc.
- Klíčová slova
- plazmochemie, výboje v plynech, úpravy povrchů, depozice
- Spolupracující organizace
-
Ústav fyziky plazmatu AV ČR, v. v. i.
- Odpovědná osoba doc. RNDr. Milan Hrabovský, CSc.
- Odpovědná osoba prof. RNDr. František Krčma, Ph.D.
- Odpovědná osoba doc. RNDr. Petr Ponížil, Ph.D.
Publikace
Počet publikací: 77
2012
-
Determination of metastable and ground state density by method of effective branching fractions in Ar, Ar-Ti plasma
Potential and Applications of Surface Nanotreatment of Polymers and Glass: Book of Extended Abstracts, rok: 2012
-
Evaluation of composition, mechanical properties and structure of nc-TiC/a-C:H coatings prepared by balanced magnetron sputtering
Surface & Coatings Technology, rok: 2012, ročník: 211, vydání: OCTOBER, DOI
-
Experimental study of DC driven hybrid PVD-PECVD process
Rok: 2012, druh: Konferenční abstrakty
-
Feedback system to control reactive magnetron sputtering
Potential and Applications of Surface Nanothreatment of Polymers and Glass, rok: 2012
-
Hybrid PVD-PECVD Process for Synthesis of Me/C Nanocomposite Coatings
Rok: 2012, druh: Konferenční abstrakty
-
Langmuir Probe and Optical Emission Diagnostics of DC Cylindrical Magnetron
Rok: 2012, druh: Konferenční abstrakty
-
Laser induced fluorescence of OH radicals in coplanar dielectric barrier discharge
PASNPG Book of Extended Abstracts, rok: 2012
-
Magnetic Properties of gamma-Fe2O3 Nanopowder Synthesized by Atmospheric Microwave Torch Discharge
Proceedings of the European Conference Physics of Magnetism 2011 (PM’11), rok: 2012
-
Modelling of Reactive Magnetron Sputtering with Focus on Changes in Target Utilization
Chemické listy, rok: 2012, ročník: 106, vydání: S
-
Monitoring and control of RF driven PVD, PECVD and etching plasmas using Fourier components of discharge voltages
Rok: 2012, druh: Konferenční abstrakty