Informace o projektu
Plazmochemické procesy a jejich technologické aplikace
- Kód projektu
- GD104/09/H080
- Období řešení
- 1/2009 - 12/2012
- Investor / Programový rámec / typ projektu
-
Grantová agentura ČR
- Doktorské granty
- Fakulta / Pracoviště MU
-
Přírodovědecká fakulta
- prof. RNDr. David Trunec, CSc.
- doc. RNDr. Antonín Brablec, CSc.
- Klíčová slova
- plazmochemie, výboje v plynech, úpravy povrchů, depozice
- Spolupracující organizace
-
Ústav fyziky plazmatu AV ČR, v. v. i.
- Odpovědná osoba doc. RNDr. Milan Hrabovský, CSc.
- Odpovědná osoba prof. RNDr. František Krčma, Ph.D.
- Odpovědná osoba doc. RNDr. Petr Ponížil, Ph.D.
Publikace
Počet publikací: 77
2012
-
OES diagnostics of underwater diaphragm discharge generated by HV pulses at atmospheric pressure
Rok: 2012, druh: Konferenční abstrakty
-
Properties of nc-TiC/a-C:H films prepared by PVD-PECVD process at low and high ion bombardment
Rok: 2012, druh: Konferenční abstrakty
-
SILVER IONS BONDING ON POLYPROPYLENE BY UNDERWATER DOUBLE DIAPHRAGM DISCHARGE FOR ANTIMICROBIAL APPLICATIONS
Chem. listy, rok: 2012, ročník: 106/2012, vydání: 106
-
UNDERWATER DIAPHRAGM DISCHARGE, A NEW TECHNIQUE FOR POLYPROPYLENE TEXTILE SURFACE MODIFICATION
Chem. listy, rok: 2012, ročník: 106/2012, vydání: 106
2011
-
Deposition and analyses of hard and thick well adherent nc-TiC/a-C:H coatings prepared by hybrid PVD-PECVD process
Rok: 2011, druh: Konferenční abstrakty
-
Deposition and analyses of thick hard adherent nanocomposite titanium/carbon based coatings
Rok: 2011, druh: Konferenční abstrakty
-
Depth profile analyses of nc-TiC/a-C:H coating prepared by balanced magnetron sputtering
Surface & Coatings Technology, rok: 2011, ročník: 205, vydání: July, DOI
-
Dielectric response and structure of amorphous hydrogenated carbon films with nitrogen admixture
Thin Solid Films, rok: 2011, ročník: 519, vydání: 13, DOI
-
Effect of chemical composition on in-depth mechanical properties of nc-TiC/a-C:H coatings
Rok: 2011, druh: Konferenční abstrakty
-
Experimental study of hybrid PVD-PECVD process of metallic target sputtering in argon and acetylene
Rok: 2011, druh: Konferenční abstrakty