Informace o projektu
Příprava nových Si-O(N)-C materiálů plazmochemickou metodou
- Kód projektu
- 1K05025
- Období řešení
- 1/2005 - 12/2007
- Investor / Programový rámec / typ projektu
-
Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR
- Program podpory začínajících pracovníků výzkumu a vývoje (Národní program výzkumu)
- Fakulta / Pracoviště MU
-
Přírodovědecká fakulta
- prof. RNDr. Jan Janča, DrSc.
- doc. Mgr. Lenka Zajíčková, Ph.D.
- Klíčová slova
- plazmochemická depozice, PECVD, organosilikony, plazmové polymery, tvrdé vrstvy, plazmová modifikace
Cílem projektu je příprava nových Si-O-C:H polymerů variabilních ve své nanostruktuře i organicko-anorganickém charakteru a příprava tvrdých ochranných Si-O-C a Si-N-C vrstev vykazujících nízké vnitřní pnutí a dobrou adhezi k různým substrátům. Tyto materiály budou připravovány v kontinuálním a pulzním režimu vf. doutnavého výboje za použití organosilikonových reaktantů. Vlastnosti vrstev budou optimalizovány pro předpokládané aplikace změnou depozičních parametrů, především složením reakční směsi, stupněm iontového bombardu, délkou trvání pulzu a dobou mezi pulzy. Procesy během depozice budou studovány několika metodami diagnostiky plazmatu, aby došlo k porozumění vlivu těchto procesů na výsledné vlastnosti vrstev. Zároveň bude stanoven postup plazmového ošetření povrchu substrátu vedoucí k dobré adhezi vrstev. Výsledky budou prezentovány na mezinárodních konferencích a publikovány v recenzovaných časopisech.
Publikace
Počet publikací: 16
2006
-
Spektroskopická elipsometrie
Rok: 2006, druh: Uspořádání workshopu
-
The instrumented indentation test - powerful tool in development of new materials
Lokální mechanické vlastnosti 2006, rok: 2006
2005
-
Actinometry for understanding PECVD of thin films from O2/HMDSO plasmas
Proceedings of the XXVII ICPIG, rok: 2005
-
Optical Emission Spectroscopy in HMDSO/O2 RF Glow Discharge
WDS'05 Proceedings of Contributed Papers, Part II, rok: 2005
-
PECVD a opracování povrchu materiálů v nízkotlakých výbojích
Rok: 2005, druh: Prezentace v oblasti VaV (AV tvorba, WEB aplikace apod.)
-
Plasma enhanced CVD of hard DLC/SiOx coatings from methane and hexamethyldisiloxane
17th International Symposium on Plasma Chemistry, rok: 2005